短波紅外成像應用-材料分選發(fa)表時(shi)間:2021-12-31 15:49 近(jin)紅(hong)外光(guang)譜分析技術基(ji)于(X-H)分子官能(neng)團的化學(xue)鍵(jian)的簡諧振動(dong),其(qi)(qi)簡諧振(zhen)動(dong)的振(zhen)幅與其(qi)(qi)相應勢能有關。但分子(zi)官能團吸收光子(zi)時,其(qi)(qi)勢能會由(you)基態(tai)向激(ji)發態(tai)躍(yue)遷,從而會在近紅外光譜上(shang)形成特(te)征吸收峰。由(you)于不同(tong)物質含有的X-H化學鍵(jian)的形式(shi)、個數(shu)不同(tong),所以不同(tong)材料在近紅(hong)外光譜形成的吸收峰(feng)也(ye)各有不同,因(yin)而通過吸收峰(feng)的位置及強(qiang)度可以(yi)判斷材料種類(lei)。 效果展(zhan)示: 上一篇(pian)紫外成像應用-避日光成像
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